三星与ASML达成协议：采购下一代High-NAEUV光刻机

6月30日消息，据BusinessKorea报道，三星电子副董事长李在_于6月中旬结束了对欧洲的商务访问，此行他与ASML公司就引进该荷兰半导体设备制造商的下一代极紫外(EUV)光刻设备进行了会谈。

报道称，李在_于6月14日(当地时间)在荷兰ASML总部会见了ASML首席执行官PeterWennink和首席技术官MartinvandenBrink，并就引进今年生产的EUV光刻设备和计划于明年推出的高数值孔径(High-NA)EUV光刻设备达成了协议。

High-NAEUV是下一代光刻设备，与现有的EUV光刻设备相比，可以雕刻出更精细的电路，其被认为是一个改变游戏规则的设备，将决定3纳米以下代工市场技术竞赛的赢家。

High-NAEUV光刻设备的单价估计为5000亿韩元(约25.85亿元人民币)，是现有EUV光刻设备的两倍。

今年早些时候，英特尔宣布已签署合同购买5台这种设备，用于在2025年生产1.8纳米芯片。台积电也在6月16日的美国硅谷技术研讨会上表示，它将在2024年在全球首次将High-NAEUV光刻设备引入其工艺。

在这场对下一代EUV光刻设备的争夺中，三星电子也寻求获得最新的EUV设备。李在_的欧洲商务之旅主要是为了确保获得下一代High-NAEUV光刻设备，以及目前正在生产的最新一代设备。ASML今年只能生产50台EUV设备，交货期为一年到一年零六个月。该公司有限的生产能力和较长的交货期，助长了对High-NAEUV光刻设备的预购竞争。

三星电子将High-NAEUV光刻设备实际应用于其半导体工艺的具体时间还没有确定。但考虑到交付周期，预计三星电子将在2024年开始实际使用High-NAEUV光刻设备。

一些行业观察人士呼吁韩国政府对半导体设施的投资给予更多支持。据报道，三星电子已经获得了今年计划生产的55台EUV光刻设备中的18台。这意味着，该公司仅在EUV光刻设备上的投资就将超过4万亿韩元(约206.8亿元人民币)。

“如果三星采购10台High-NAEUV光刻设备，将花费公司超过5万亿韩元(约258.5亿元人民币)，”一位业内人士说，“有必要扩大政府支持，以增强韩国的国家工业竞争力”。

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